STRATURI SUBȚIRI SEMICONDUCTOARE PREPARATE ÎN SISTEME DE PULVERIZARE CU MAGNETRON (DC): TEORIE vs EXPERIMENT (I)

Igor Narolschi, Alexandr CLIUCANOV, Corneliu ROTARU, Marin RUSU, Sergiu VATAVU

Abstract


Caracteristica curent-tensiune a sistemului de pulverizare cu magnetron (DC) depinde în formă pătratică de trei pa­­ra­metri, unul dintre care este egal cu potențialul de aprindere a descărcării gazului, pe când ceilalți doi parametri se de­ter­mină experimental din caracteristica curent-tensiune pentru valori mici sau mari ale tensiunii aplicate sistemului.

 

SEMICONDUCTOR THIN FILMS PREPARED BY MAGNETRON SPUTTERTING (DC):  THEORY vs EXPERIMENT (I)

The current-voltage dependencies of a DC magnetron system depend, as a square function, on three parameters, one of those being equal to the ignition potential in gas discharge, while the other two are being determined experimentally by use of experimental curves for low/high applied voltages.


Keywords


magnetron sputtering system, current vs voltage dependence, gas discharge.

Full Text:

PDF

References


CONSTANTIN, D.G., APREUTESEI, M., ARVINTE, R., MARIN, A., ANDREI, O.C., MUNTEANU, D. Magnetron Sputtering Technique Used for Coatings Deposition. In: Technologies and Applications, RECENT, 2011, 12, no.1 (31), p.29-33.

WU, X., MENG, F., CHU, D., YAO, M., GUAN, K., ZHANG, D., MENG, J. Carrier Tuning in ZnSnN2 by Forming Amorphous and Microcrystalline Phases. In: Inorg. Chem., 2019, no.58, p.8480-8485.

ДАНИЛИН, Б.С., СЫРЧИН, В.К. Магнетронные распылительные системы. Москва: Радио и связь, 1982.


Refbacks

  • There are currently no refbacks.